新思科技(Synopsys)宣布，Galaxy Design Platform已支援全球9成的FinFET晶片设计量产投片，目前已有超过20家业界领导厂商运用这个平台，成功完成超过100件FinFET投片。

　 　格罗方德半导体(GLOBALFOUNDRIE)、英特尔晶圆代工(Intel Custom Foundry)、三星电子等晶圆厂已经利用 Galaxy Design Platform为彼此之共同客户如Achronix、创意电子 (Global Unichip Corporation)、海思半导体(HiSilicon Technologies)、迈威尔科技 (Marvell)、Netronome、NVIDIA以及三星电子等，进行测试晶片以及FinFET的量产投片，这些晶片被广泛地应用于消费性电子、无线应用、绘图、微处理器、网路装置等领域。

　 　以FinFET为基础的制程节点(process node)技术能带来多项优势，包括较佳的密度、较低的功耗以及较好的效能。 Galaxy Design Platform实作工具的最新创新技术，能处理从平面移转到3D电晶体所产生的大量新设计规则，藉此达成前述优势。

　　新思科技积极与晶圆厂合作夥伴维持全面性的合作关系，确保Galaxy Design Platform所有工具的更新，以便支援多重曝光(multi-patterning)、局部互联(local interconnect)架构等FinFET装置所带来的制程变革。

　 　Galaxy Design Platform最新的工具包括：Design Compiler 合成解决方案、TetraMAX ATPG、 IC Compiler及IC Compiler II布局绕线解决方案、PrimeTime签核解决方案、StarRC撷取(extraction)、 HSPICE、CustomSim及FineSim模拟产品、Galaxy Custom Designer电路图(schematic)、Laker布 局工具，以及IC Validator物理验证等。

　　新思科技执 行副总裁暨设计事业群总经理Antun Domic表示，与FinFET晶圆厂和FinFET技术的客户保持长期而紧密的合作关系，这是新思科技能迈入这 次重要里程碑的原因。最近几年来，不少公司已采用Galaxy Design Platform，完成FinFET半导体装置的量产。

　　为了让晶片设计达到高效能、低功耗，有许多客户已逐步转向FinFET制程，当他们的设计人员采用Galaxy工具进行FinFET设计时，可以达到品质绝佳的设计结果(quality of results)。