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10纳米工艺成为智能终端“芯”焦点

2016-08-22

  全球智能手机芯片市场竞争越来越激烈,“寡头竞争”趋势已十分明显。当能够生存下来的手机芯片企业都拥有了每年数亿颗的出货量,同时具备了强大开发实力之后,市场竞争的表现形式与此前也有所不同。两三年前,最具代表性的智能手机芯片之争,当属“内核大战”。很多消费者对此仍然记忆犹新。不过,随着处理器性能的提高,目前市场上手机芯片厂商的研发实力都很强,单纯的“内核之争”已经很难拉开彼此间的差距,导致内核之战逐渐降温。

  相应的,近来手机芯片厂商对先进制造工艺的争夺又有渐趋激烈之势,先进工艺正在成为智能手机芯片厂商比拼自身实力的阵地,在14纳米、16纳米节点之后,10纳米正成为几家巨头下一阶段的竞争焦点。综合各厂商已经公布出来的信息,联发科Helio X30处理器芯片将于2017年第一季度量产,采用台积电10纳米工艺;高通的骁龙830将采用三星的10纳米工艺;三星电子的Exynos 8995,亦将采用10纳米T工艺。

  一方面,智能手机芯片厂商如此积极地采用先进工艺,有着技术上的迫切需求。展讯副总裁康一表示,一般而言,不同的芯片制程工艺将导致芯片性能变化。制程越小,单位面积上可以集成的芯片越多,芯片性能将提升。同样,更小的芯片制程也意味着功耗的降低。由于智能手机对功耗以及尺寸的苛求,是否具备低功耗甚至超低功耗设计技术和能力,将决定产品能否在移动设备中得到应用。而先进工艺是降低产品功耗、缩小尺寸的重要手段。让高端芯片更轻薄、更省电,将有助于提升手机厂商的产品均价与竞争力。另一方面,目前先进工艺产能相对紧张,全球具有14纳米、16纳米生产能力的晶圆代工企业只有三星、台积电和英特尔三家,10纳米产能更是到2017年才有望形成。抢抓先进产能,将可拉开与竞争对手的距离。同时,这也不失为标榜自身技术先进的一个宣传手段。


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