根据 《路透社》 的报导，日本光学大厂尼康 （Nikon）于24日表示，已对荷兰半导体设备大厂艾司摩尔 （ASML Holding NV） 和合作伙伴卡尔蔡司 （Carl Zeiss AG） 提起法律诉讼，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 两家公司在未经 Nikon 的许可下将其微影 （lithography） 技术专利用于光刻机上，并运用在半导体制造业中。

报导进一步表示，世界第 8 大芯片设备制造商 Nikon 在 24 日指出，已经在荷兰、德国和日本针对生产半导体光刻机的荷兰厂商 ASML 和旗下光电供应商 Carl Zeiss 提起了专利侵权案件。Nikon 在一份声明中指出，ASML 和 Carl Zeiss 在没有得到许可的情况之下，采用了 Nikon 的专利技术，运用在 ASML 的光刻机中。而光刻机是用在全球的半导体制造业中先进制程不可缺少的设备，如此以进一步侵犯了 Nikon 的专利。Nikon 表示，正在寻求损害赔偿，并防止 ASML 和 Carl Zeiss 出售该技术。

目前在全球的半导体设备市场中，ASML 主导半导体光刻机的产品。根据惠誉评级 （Fitch Ratings） 在 2017 年 1 月份的一份研究报告中指出，这家荷兰公司在这样的高端的半导体设备中，占有 90% 的市场占有率。而根据 ASML 在 19 日所公布的 2017 年第 1 季财报显示，第 1 季营收净利达 19.4 亿欧元，毛利率为 47.6%，EUV 极紫外光微影系统的未出货订单则累积到 21 台，价值高达 23 亿欧元。而且预估 ASML 在 2017 第 2 季营收净利将落在 19 到 20 亿欧元之间，毛利率约为 43% 到 44%。

ASML 的总裁兼CEO Peter Wennink 对于 Nikon 所发起的诉讼表示，Nikon 所提起的诉讼不但不必要，还毫无根据。而且，这还将对于全球半导体产业造成不确定性。他进一步指出表示，ASML 已多次尝试与 Nikon 协商延长交叉许可协议。

Nikon 则表示，法律诉讼是在由美国退休法官于 2016 年底进行的调解未成之后所决定发起的。而根据 Nikon 的说法，提起诉讼的 3 项微影技术专利，ASML 和 Carl Zeiss 两家公司分别在 2004 年支付 Nikon 8,700万 美元和 5,800 万美元的授权金。授权期限在 2009 年到期，而 2014 年底其专利权的过渡期也到期之后，双方在 2016 年底经过调解协商延长交叉许可协议未成。