光刻机是半导体芯片生产过程中的关键设备，光刻机所使用的光源波长直接决定着芯片的工艺级别。例如，目前最先进的芯片制程7nm\5nm等，都离不开EUV极紫外光刻机，而这种光刻机的全球唯一供应商就是荷兰阿斯麦ASML。

最近，据同花顺财经消息， 荷兰阿斯麦 ASML 首席财务官 Roger Dassen 在财报会议的视频采访中谈及了与中芯国际等中国客户的业务情况。

Roger Dassen 表示，如果广泛地来理解美国规章制度对 ASML 的总体含义(对于特定的中国客户)，则意味着 ASML 将能够从荷兰向这些中国客户提供 DUV 光刻系统，且无需出口许可证。不过，如果涉及直接从美国运往此类客户的零件或系统，ASML 则需要为此申请出口许可证。

21ic家注意到，最近，ASML公布了其第三季度财报，在该季度ASML一共交付了10台EUV系统，并实现了14台系统的销售收入，总销售额达到40亿欧元。同时，第三季度的新增订单达到29亿欧元，其中5.95亿欧元来自4台EUV设备。

财报中还公布了其两大系列光刻机产品的最新进展。

其中，在EUV光刻业务领域，绝大部分TWINSCAN NXE:3400B系统在客户处同时进行了生产率模组的升级。同时，ASML还公布了其EUV路线图上的最新机型：TWINSCAN NXE：3600D，该EUV光刻机实现了30mJ/cm2的曝光能量达到每小时160片晶圆，生产率提高了18%，并改进了机器匹配套刻精度至1.1纳米。该新型EUV光刻机预计2021年中期开始发货。

在DUV光刻业务领域，ASML在本季度对第一台TWINSCAN NXT：2050i进行了质量认证，并于第四季度初发货。NXT：2050i是基于NXT平台的新版本，其中包括掩模版工作台，晶圆工作台，投影物镜和曝光激光器的技术改进。由于采用了这些创新，该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生产率。NXT：2050i已进入批量生产阶段。