ASML全新EUV光刻机将于2021年发货，生产效率提升18%
2020-10-17
来源：全球半导体观察
据《科创板日报》消息，ASML公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1纳米，并计划于2021年的中期开始发货。
在DUV光刻业务领域，ASML在本季度对第一台TWINSCAN NXT:2050i进行了质量认证，并于第四季度初发货。NXT:2050i基于NXT平台的新版本，其中包括掩模版工作台，晶圆工作台，投影物镜和曝光激光器的技术改进。该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生产率，而且，NXT:2050i 将立即进入批量生产。
ASML是全球光刻机行业龙头，市占率超过60%，在DUV浸入式光刻机市场占据了最大的份额，并垄断了顶级的EUV光刻机市场。
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