据美媒报道，一位美国官员透露，拜登政府在确认EUV光刻机在科技产业中的战略价值后，已与荷兰政府进行接触，并以国家安全为由要求荷兰方面限制向中国大陆出售EUV！
　　报道披露，拜登正式就职不到一个月，其国家安全顾问沙利文已就“在先进技术方面的密切合作”与荷兰方面进行交谈。美国官员透露，继续限制阿斯麦与中国大陆的合作，是沙利文的首要任务。

　　事实上，中美围绕荷兰ASML光刻机发生的纷争，早在2018年就已经开始了：
　　2018年5月，国内最大晶圆代工厂中芯国际向ASML下单了一台价值1.2亿美元的EUV光刻机，预计2019年底交付，2020年进行安装。
　　几乎是同一时间，当时的特朗普政府就向荷兰政府发出威胁，不得向中国交付这台EUV光刻机，否则美国政府将断供该光刻机上必须的美国造设备。
　　2019年11月，ASML宣布，荷兰政府不再续签相关出口许可，向中芯国际出售EUV光刻机的计划正式终止。

　　任何一家芯片制造商都愿意尽一切可能提高自家芯片的性能，从而以最大优势独占整个商业市场。因此当2015年ASML正式推出EUV型光刻机后，台积电、三星等全球芯片代工大厂立刻抢购，三星前CEO李在镕甚至曾亲自前往ASML总部交涉。
　　这样努力的结果就是，截至目前为止，单台积电一家就已经拥有近50台EUV光刻机。而依靠这些EUV光刻机，台积电在2020年与三星一起推出了5nm级芯片制备工艺，并计划在2022年推出3nm级芯片，几乎可以说是垄断了全球10nm级以下芯片代工业务。
　　在ASML的NA EUV型光刻机计划推出后，台积电和三星又立刻做出反应，宣布希望最早在2024年能用上NA EUV光刻机，以生产2nm级芯片。而此时中芯国际这边却连一台EUV都求购不得……美国这道禁令对我国IC业的杀伤力有多大，由此可见一斑。
　　另外，虽然对于中国来说，没有阿斯麦的光刻机确实是个不小的麻烦，但是这并不能真的困死中国，美国的打压，只会让中国更加想要实现光刻机的“自给自足”。据了解，中国很多机构已经开始参与光刻机领域的分项研究。
　　今年6月8日，英国科技媒体“VERDICT”在一篇报道中称，上海微电子计划在今年底推出一台国产28nm DUV光刻机，并在上海的一条专有生产线上为物联网设备制造48nm和28nm芯片。该报道还提到，上海微电子管理层近期表示，提高48nm和28nm的良率仍然是一个挑战，但该公司现在拥有基本的自主光刻技术能力，无需美国IP来制造芯片。

　　VERDICT评论称，现在评估中国企业在光刻机领域改变市场规则还为时过早，但是上海微电子已经在一个极其困难的技术领域取得突破。
　　其实，美国政府现在打压中国就是为了维护自身科技垄断和霸权地位，但是他们以为这样就能打垮中国，那就是大错特错。
　　7月14日，上海市政府发布《上海市先进制造业发展“十四五”规划》。其中提到，“十四五”时期将加强装备材料创新发展，突破光刻设备、刻蚀设备、薄膜设备、离子注入设备、湿法设备、检测设备等集成电路前道核心工艺设备。
　　也许是看到中国在突破半导体设备方面的决心，阿斯麦CEO温彼得今年4月曾向美国喊话，“如果你采取出口管制措施将中国市场拒之门外，这将迫使他们争取技术主权，就其真正的技术主权而言……在15年的时间里，他们自己将能够做出所有的这些东西，而且他们的市场（针对欧洲供应商的市场）将彻底消失。”
　　而《华尔街日报》认为，中国追上阿斯麦的光刻机技术至少需要10年。