自2020年至今，全球芯片供应短缺问题一直没有得到解决，甚至还有愈演愈烈的趋势，这在一定程度上扰乱了制造业经济的发展，因此近两年各国纷纷加强了对国内芯片产业扶持，尤其是日本。

其实，在上世纪八九十年代，日本半导体也曾有过辉煌时刻，一度在全球半导体产业中撑起了半壁江山，但因为多年来日本政府对芯片产业投资不足，日本芯片制造在全球市场上的份额越来越小。

这一次的全球“芯片荒”让世界各国都意识到了掌握芯片制造的重要性，决定重振芯片产业，这其中就包括日本。

众所周知，芯片制造是一个资金密集型产业，因此日本政府加大了对芯片产业的投资。日本首相曾表示，将为国内芯片生产提供超1.4万亿日元（约123亿美元）的投资。

不过，华尔街见闻2021年12月22日报道，东京电子有限公司前总裁东哲郎认为，日本政府应该在下一季度提供税收减免，同时在未来10年内投资10万亿日元（约880亿美元）以振兴日本芯片制造产业。

并且，东哲郎表示，日本需要大概10年的时间才能进入芯片制造的前线阵营，期望在这段时间内，日本能够实现2nm和3nm芯片的量产。

需要注意的是，即便是全球技术最先进的晶圆代工厂台积电，目前也没能实现3nm芯片的量产。

日本芯片制造业已经落后多年，想要在10年内冲刺3nm甚至2nm芯片的量产，这个难度着实不小。那么，日本究竟哪里来的底气冲刺2nm芯片呢？

值得一提的是，日本虽然没有先进的晶圆厂，但它在半导体材料以及核心设备等领域却具有明显的优势。

以芯片制造过程中必不可少的核心设备——光刻机为例，众所周知全球能够提供EUV光刻机的企业只有荷兰的ASML公司，但其实日本佳能、尼康也是光刻机领域的巨头。

不仅如此，在ASML公司崛起之前，日本尼康才是全球光刻机霸主，佳能紧随其后。尽管如今尼康和佳能在高端光刻机领域已经“没落”，但它们之前在光刻机领域的相关积累，也能在一定程度上给日本的先进制造提供指引。

另外，在EUV光刻胶方面，南大光电在2021年3月发布的相关报告中披露，放眼全球只有日本厂商研发出了EUV光刻胶。

要知道，在芯片制造的过程中，光刻胶的重要性几乎等同于光刻机，而且光刻胶的精度也制约着芯片制程的推进，若想要生产制造出7nm节点以下的芯片，EUV光刻胶是不可或缺的材料。

除了EUV光刻胶外，日本企业在EUV涂覆显影设备，以及EUV光罩检验设备中领域也做到了全球垄断。

总而言之，日本在部分半导体材料或设备领域的垄断，就是它的底气。而在日本相关企业的配合下，以及政府的资金支持下，日本的确存在复兴半导体制造业的可能。

不过，日本芯片的崛起，必然会对中国芯片产业产生一定的威胁，毕竟我国在半导体全产业链上的布局还并不完善。