近日ASML高管表示摩尔定律依然生效，依靠现有的EUV光刻机等技术可以进一步将芯片制造工艺推进1纳米，此言论是它在一季度营收下滑19％、净利润几乎腰斩之后发出的，这可能是因为它忧虑芯片制造市场发生变化而给业界描绘的大饼。

如今的ASML依然是活得很滋润的，全球芯片制造企业依然在抢购它的光刻机，不仅它的新光刻机广受欢迎，甚至供不应求，二手光刻机同样极受欢迎，尤其是中国芯片企业的抢购，导致日本的二手光刻机涨价三倍。

不过由于光刻机的价格实在太昂贵，导致不少企业颇有微词，其中日本芯片企业最先发起挑战，铠侠联合日本的芯片设备企业研发的NIL工艺已舍弃了光刻机，据日媒的消息指使用NIL工艺可以大幅降低成本，因此铠侠对于NIL工艺颇为满意，预期该项工艺可以延伸至5纳米。

北方某国因为当下的境况难以买到光刻机，因此决定研发全新技术的光刻机，正研发X射线光刻机，X射线的波长比极紫外线的波长更短，如果这项技术获得成功可以达到更高的精度、同时也可以大幅降低成本。

中国由于种种原因难以买到EUV光刻机，不过中国芯片制造可以DUV光刻机生产7nm工艺，然后再辅以芯片叠加技术取得相当于5nm工艺的性能，而中国已是全球最大的芯片设备市场，如果中国对光刻机的需求下滑，那么对ASML将是重大打击。

ASML更担忧的是光刻机三大客户台积电、Intel和三星对光刻机的需求可能下滑，台积电已表示在3纳米工艺之后，2纳米乃至更先进的工艺开发将面临困难，因此它们都将延迟更先进工艺的研发，如此它们对EUV光刻机的需求将下滑。

可能ASML正是因为担忧光刻机的需求在未来出现下滑，因此发出了这番言论，以鼓励投资者，同时为芯片制造企业打气，毕竟它的业务非常单一，光刻机是唯一的产品，如果光刻机的需求下滑，那么它将大伤元气。

其实ASML当下面临的压力已不仅是光刻机市场可能发生的变化，芯片市场也正从供给不足向供给过剩转变，早前它就说全球芯片供给不足将延续，然而知名苹果分析师郭明錤和Gartner都给出了不同预测，郭明錤表示目前手机芯片市场已出现过剩迹象，Gartner则认为下半年或明年将开始出现芯片过剩。

芯片出现过剩意味着当下正大举推进的芯片产能扩张将会暂停，对光刻机的需求将立即出现下降，可能ASML也正是因为担忧光刻机的需求下滑，因此不断发出正面信息，既是鼓舞自己也是为了提升投资者信心。

无论如何，这两年全球芯片市场已发生重大变化，这已对全球芯片产业链造成了巨大的冲击，这种变化为ASML带来了这两年的好日子，但是同样也是因为这种变化必将对ASML的光刻机造成深远的影响，继续维持这种好日子实在不太现实。