Intel CEO宣布200亿美元建芯片工厂,“1.8nm”工艺或成翻盘利器
2022-09-13
来源:21ic
当地时间9月9日,Intel CEO基辛格宣布在美国俄亥俄州投资200亿美元新建大型晶圆厂,这是Intel IDM 2.0战略的一部分,整个投资计划高达1000亿美元,新工厂预计2025年量产,届时“1.8nm”工艺将让Intel重新回到半导体领导者地位。
英特尔200亿美元晶圆厂终于正式开工,拜登亲自出席道贺。面对三星和台积电的制程优势,英特尔真能「弯道超车」吗?Intel的芯片制造基地将有2座晶圆厂组成,最多可容纳8个厂房及配套的生态支持系统,占地面积将近1000英亩,也就是4平方公里之大,将创造3000个高薪工作岗位,7000多个建筑工岗位,以及数万个供应链合作岗位。
这两座晶圆厂预计会在2025年量产,Intel没有具体提到工厂的工艺水平,但是Intel之前表示要在4年内掌握5代CPU工艺,2024年就要量产20A及18A两代工艺,因此这里的工厂届时应该也会量产18A工艺。
20A、18A是全球首个达到埃米级的芯片工艺,相当于友商的2nm、1.8nm工艺,还会首发Intel两大黑科技技术Ribbon FET及PowerVia。
目前,苹果、AMD、NVIDIA及高通、联发科等公司依然选择台积电工艺代工,那么,在未来相当长的时间里,台积电行业老大的位置,恐怕还能继续坐下去。
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