韩国本土半导体厂商开发石墨烯技术，提高生产良率
2022-12-18
来源：21ic
12月15日消息，据报导，韩国本土的半导体和显示材料开发商——石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) ，有望显著提高ASML的极紫外光 (EUV) 系统生产芯片的良率。
据了解，光罩保护膜是一种薄膜，可保护光罩表面免受空气中微分子或污染物的影响，这对于 5nm或以下节点制程的先进制程技术的良率表现至关重要。
另外，光罩保护膜也是一种需要定期更换的消耗品，而由于EUV光刻设备的光源波长较短，因此护膜需要较薄厚度来增加透光率。
之前，硅已被用于制造光罩护膜，但石墨烯会是一种更好的材料，因为石墨烯制造的光罩保护膜比硅更薄、更透明。
报导还强调，EUV光罩护膜必须能够承受曝光过程中发生的 800 度或更高的高温，而基于石墨烯材料的光罩保护膜在高温下的硬化特性要好，相比之下硅制产品非常容易破裂。
更多信息可以来这里获取==>>电子技术应用-AET<<
本站内容除特别声明的原创文章之外，转载内容只为传递更多信息，并不代表本网站赞同其观点。转载的所有的文章、图片、音/视频文件等资料的版权归版权所有权人所有。本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如涉及作品内容、版权和其它问题，请及时通过电子邮件或电话通知我们，以便迅速采取适当措施，避免给双方造成不必要的经济损失。联系电话：010-82306118；邮箱：aet@chinaaet.com。