IC产业 未来高阶铜技术重要
2011-11-14
来源:Csia
台积电资深处长余振华表示,为了减少耗电,增加系统互联的速度,积体电路(IC)用铜和Low-K是解决方式;在IC产业,未来谁可以良好掌握系统互连,谁有好的高阶铜技术就会赢。
第12届世界电子电路大会(ECWC12)与台湾电路板展(TPCAShow)今天联合登场,开幕主题演说时余振华表示,半导体到印刷电路板的互连高速道路是绿色环保、耗能少的技术。
余振华说,新IC转换趋势会因智慧型手机、平板电脑以及云端运算兴起,有更低耗能、更轻薄小的趋势;IC等元件要可以放得更近,甚至可以叠起来,或是垂直叠起来,称做3DIC。
未来将不只智慧手机、平板电脑等行动设备会运用,许多高阶设备,包括伺服器、高阶PC都会使用,因为这些设备也遇到了降低成本和低耗电要求。
余振华说,IC用铜和Low-K可解决互连速度和成本问题;未来,可以说谁有好的高阶铜技术,谁就会赢,但这个技术目前有经验者并不多。
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