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中国第一代半导体人的“匆匆那年”

2015-06-25

       1963年,幸勇毕业于中国科技大学技术物理系,同年分配在中国科学院上海冶金研究所工作。两年后的春天,中国科学院为该所下达研制国产集成电路的任务,为国防科技服务。

  在时下被电子产品“左右”的生活里,集成电路作为其核心,隐匿于产品中。日前,笔者接到一封读者来信,他希望以“新中国第一块集成电路设计工作者”的身份,纪念我国集成电路诞生50周年,信中还提及,上世纪60年代成功发射“两弹一星”的背后,也有其团队设计的集成电路的身影。笔者联系上这位读者,听他讲述了一位老科技工作者与集成电路的故事。


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  这位读者名叫幸勇,79岁高龄的他耳聪目明,采访过程中不时“蹦”两句英文讲解。还没说起集成电路,就拿出珍藏多年的集成电路样板向笔者展示,追忆当年研制集成电路的艰苦历程。

  1963年,幸勇毕业于中国科技大学技术物理系,同年分配在中国科学院上海冶金研究所工作。两年后的春天,中国科学院为该所下达研制国产集成电路的任务,为国防科技服务。当时,幸勇作为15人的研制组中的一员,被分配负责电路设计和制版。

   “无论是设计还是制版,当时我们国内都没有掌握这方面的技术。”制作集成电路需要电路缩微制版、光刻、外延、扩散、真空合金化、封装等36道工序,每一 道工序对我们团队而言都是前所未有的挑战。为了获得技术支持,他们从国外科技期刊上寻找资料。1960年,美国发明集成电路;但受当时政治环境影响,美国 对我国实施技术封锁。只能通过外交部门通过友好国家的渠道购买科技期刊,再转运到上海。“书一送来,工作人员还在影印,我就跑去借阅。”拿到了科技资料, 只是集成电路研制的起点。逻辑分析、绘制线路图、模拟测试……反复试验之后的研制环节,又再度遭遇技术工艺“封锁”的挑战。

  如何把集成 电路绘制图通过微缩照相处理的方式刻制成掩模板?是幸勇反复思考的问题。“买不到高分辨率的感光片,那就自己制作。”翻阅国外出版的技术论文,提高卤化银 颗粒的均匀度,摸索合适的制作工艺,又是一轮反复的配比试验。累了直接躺在实验室里休息,更多时候都是讨论和试验。而集成电路的线条细到微米甚至毫微米 级,许多操作要在放大镜下进行,并要求环境空气净化。由于条件不足,成品率极低。经过研发团队数月奋战,终于在当年国庆前夕,研制成功我国第一块集成电 路,向国庆16周年献上了一份厚礼!计算机运行速度从原有每秒1000多次提升至每秒百万次以上。随后研制成功的ECL超高速集成电路和大规模集成电路, 为我国研制“两弹一星”迫切所需的高速计算机,提供了基础器件。改革开放后,幸勇所在团队参与制作的第一块集成电路和超高速集成电路,还曾分别荣获全国科 学大会奖和国家科技进步一等奖。

  1975年,因家庭原因幸勇自愿申请调离研究所,回到家乡梅州工作。而那参与集成电路研发的10多年光阴,一直在老人的回忆里闪烁。

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