上海和沈阳2015年12月1日电 /美通社/ -- 中微半导体设备有限公司（AMEC，以下简称“中微”）、 国家集成电路产业投资基金股份有限公司和苏州聚源东方投资基金中心宣布已完成对沈阳拓荆科技有限公司（以下简称“拓荆”）的投资，投资总额为2.7亿元人民币。本轮投资之后，三方将成为拓荆的重要股东。

       作为国内领先的CVD设备供应商，拓荆由中国科学院所属公司和一批海外归国的技术专家于2010年共同创立。公司主要致力于研发生产创新、先进的化学气相沉积设备（CVD），帮助全球的半导体制造商生产集成电路器件，推动消费类和工业电子产品的发展。拓荆的PECVD设备已在中国两家客户生产线上通过量产验证，并接到了重复订单。

       本轮投资将帮助拓荆加速成为全球一流的CVD设备供应商，更好地为全球半导体制造商服务。利用中微遍布全球的销售和客户支持网络、供应链，以及先进的生产制造系统，拓荆能够更高效地研发生产先进的CVD设备并加快产业化，同时能够大幅节约成本。对中微来说，这一举措意味着在向全球客户提供卓越的刻蚀产品的同时，可搭配极具竞争优势的薄膜技术。双方都将迎来新的发展机遇，同时拓展各自的应用领域。

       中微首席运营官杜志游博士称本轮投资是中微发展战略中重要的一步，拓荆具备研发合作的所有有利因素。他说道：“我们的目的更多是为了向全球半导体制造商创造更多的价值，使他们在CVD设备供应商领域有更多的选择。这一点很重要，因为当下持续不断的兼并整合使得半导体制造商在选择设备供应商的时候选择越来越 有限 。通过此次联合投资，拓荆能够进一步发挥它在CVD技术领域的专长，能与中微一起服务好全球客户。我们很高兴参与其中。”

       拓荆科技董事长和创始人姜谦博士指出，本轮融资不仅为拓荆下一阶段的发展注入新的资金动力， 更重要的是这次的注资来自国家集成电路产业投资基金、中微半导体设备有限公司和苏州聚源东方投资基金。这必将促使我们成为未来中国半导体设备产业发展的战略伙伴。“拓荆非常荣幸和感谢能够得到大基金、中微和苏州聚源的大力支持。这次融资将主要用于新市场和新产品的开发，使拓荆更大限度的展现其薄膜沉积设备的优势，为客户在生产成本，客制工艺开发，全套的技术支持等方面提供最高的价值。”姜谦博士补充说，“拓荆的薄膜设备和中微的刻蚀设备从产品，技术，和市场都是互补的。双方之前已有多方面的合作，这次中微入资将更进一步强化已有的密切合作关系，为客户提供更高层次的服务和价值。”