1月28日，荷兰光刻机制造商ASML官方宣布，收购其竞争对手荷兰代尔夫特的光刻机制造商Mapper的知识产权资产。同时，ASML的官方声明中还写到，将为Mapper在研发和产品装配方面的高技能员工提供合适的职位。ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示：“我们非常尊重Mapper的专家，他们表现出极大的创造力和足智多谋。ASML重视他们的专业知识，我们期待着欢迎他们加入我们的组织。”

ASML官方声明

能够让光刻机巨头ASML如此亲睐，这个Mapper公司到底是什么来头？

天堂和地狱仅一步之遥

作为ASML的竞争对手，Mapper在2018年12月份被证实正式宣布破产，公司拥有270名员工和众多电子束光刻机相关的IP。

Mapper曾经以为自己找到了半导体制造行业的痛点，无奈研发能力跟不上，最终错过了好时机。和Mapper电子束光刻机对应的就是传统光刻，将掩模放置在光源和硅片之间，光线通过掩模照射到硅片上，使得掩模上的线条图形按一定比例缩小转移到硅片上。这个过程需要循环反复多次，加上晶圆制造需要多层光刻，一颗芯片可能要六十次以上，这样就造成了掩模的成本非常高昂，进而导致制造一颗新的芯片的成本急剧上升。

Mapper为了降低芯片制造商在掩模上的高昂费用，以及让光刻突破光波长的限制，选择使用电子束替代光源。电子束具有很高的分辨率、较大的焦深与灵活性。Mapper设备通过使用电子束书写而不再需要掩模，让芯片成本有望实现明显下降。

但是，电子束也有自身的缺陷，就是速度比光源光刻要慢很多，Mapper通过大量增加电子束的数量来解决这个难题。光刻机的分辨率通常在十几纳米至几微米之间，这就需要极高的工艺来保证几十万个电子束能够精准的控制，研发和制造的难度都极大。

2009年，有外媒报道，由于技术上的原因，Mapper原计划交付给台积电的300mm光刻设备延期，当时给出的延期时间是一个季度，让台积电的制程研发受到了影响。而当时台积电准备转入的工艺制程是32nm。随着工艺不断精进，以及芯片上电路日益复杂，控制精度和电子束数量增长带来的难度并不亚于EUV光刻机光源功率的增加，Mapper显然没有攻克难题。

2011年，当时的代工三巨头台积电、英特尔和格罗方德其实更倾向于无掩模光刻技术，认为无掩模技术显得更适合作为下一代光刻技术使用。但是，由于无掩模技术，包括电子束光刻的研发遇到了困境，三家公司才又将目光移回到EUV光刻，此前由于担心EUV光刻成本太高以及曝光率等问题三家公司对此并不热情。

所以，16nm成了光源光刻和电子束光刻的分水岭，ASML从此名震天下，拿到光刻机市场78%的份额，Mapper一蹶不振以至于破产被收购资产。ASML的EUV光刻机是目前市场上最先进的设备，能够用于晶圆代工厂的7nm制程，其他厂商在这一点上难以望其项背。

ASML的“垄断地位”得到巩固

在2018年底，ASML只是众多对Mapper收购感兴趣的公司之一，如今如愿以偿得到Mapper的IP和员工，ASML可谓是如虎添翼。

首先，光刻机行业是技术壁垒极高的行业，能够吸纳Mapper的人才，解决了ASML的人才招聘苦恼。Peter Wennink表示：“Mapper员工也将有机会参与我们激动人心且具有挑战性的下一代芯片制造计划，即EUV和EUV High-NA。多年来积累的Mapper的知识产权和知识现在将用于荷兰的进一步创新。”

另外，虽然EUV光刻机已经量产出售给客户，但是EUV光刻机需要250瓦的光源和125WPH的效率，这让设备的生产受到极大的限制，也让设备的成本非常的高昂。并且250瓦光源只能支撑到5nm，到了3nm将需要500瓦的光源，这对ASML的研发提出极高的挑战。

因此，收购Mapper的IP无疑给自己的未来增加了更多的可能。

ASML有一个规定值得大家注意，那就是只有投资ASML，才能够获得优先供货权。ASML可以借助客户的投资在EUV光源和电子束光刻上双管齐下，保证自己在光刻机行业的垄断地位。