3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。

　　公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露，该光刻机将于2020年底前运抵国内。

　　后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司（以下简称“合作方”）沟通协调设备运输与安装等细节，致使设备没能在规定时间内运达，但与合作方就具体合作细节签署了《合作框架协议》，预计该光刻机将于2021年3月底前进入合作方现场。

　　现经各方积极协商、运作，该光刻机设备于今日（3月8日）已进入合作方北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

　　上海新阳表示，公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付，对加快193nmArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争 力，加快落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。