三井化学宣布量产新一代CNT光刻薄膜
2024-06-19
来源:IT之家
6 月 18 日消息,日本三井化学拥有荷兰阿斯麦(ASML Holding NV)授权的 EUV 光罩生产业务,并于 2021 年开始在其岩国大竹工厂商业化生产 EUV 光罩,从而成为该行业的全球领导者。
三井化学宣布将在其岩国大竹工厂设立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线,开始量产半导体最尖端光刻机的零部件产品(保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品)。
三井化学预期年产能力为 5000 张,生产线预计于 2025 年 12 月完工,可用于荷兰 ASML 将推出的下一代高数值孔径、高输出 EUV 光刻机提供支持。
光掩模防尘薄膜(pellicle)用于保护光掩模的清洁,需要高透光率以及长寿命。三井化学 2023 年与比利时微电子研究中心(imec)合作,将共同推进 EUV 碳纳米管光掩模薄膜(pellicle)技术商业化。
那么问题来了,什么是 CNT 薄膜呢?要介绍新材料IT之家这里还需要带大家先了解一下新 EUV 光刻机的能力和需求。
简单来说,下一代 EUV 光刻技术对高数值孔径(NA 值 0.55)、高输出功率 (600W 及更高) 工艺的需求尤其显著,而由新材料制成的薄膜对于承受“能实现此技术所需的苛刻光刻环境”至关重要。
▲ EUV 防护薄膜
为此,三井化学开发出了新款 CNT 薄膜并决定进行量产。据介绍,采用碳纳米管(CNT)材料制造的薄膜,与以往产品相比大幅提高了强度和光的透射率,具有极高的 EUV 透光率(≥94%)。此外,碳纳米管颗粒还能够承受超过 1kW 的 EUV 功率,从而满足未来新一代光刻机的需求。
▲ 碳纳米管薄膜
三井化学希望通过在其产品线中添加使用 CNT 作为膜材料的新一代防护薄膜产品,以及使用硅基膜制成的传统 EUV 防护薄膜,从而有帮助 ASML 提高半导体性能和生产率。