东京大学研制出新型半导体器件
有望用于下一代内存
2024-04-07
来源:凤凰网科技
日本东京大学研究团队研制出一种半导体纳米通道器件,给这种器件施加磁场能使其电阻值发生高达250倍的变化。这种现象未来有望用于开发新型非易失性存储器等。
根据日本东京大学公报,该校研究人员领衔的团队研制出一种通道长20纳米的锗半导体纳米通道器件,它属于半导体两端器件,拥有铁和氧化镁双层结构的电极,还添加了硼元素。研究人员观察到,通过给这种器件施加磁场能使其表现出电阻开关效应,外加磁场还使其实现了高达250倍的电阻变化率。研究人员给这种现象取名为“巨磁阻开关效应”。
不过,目前仅能在20开尔文(约零下253摄氏度)的低温环境下观测到这种“巨磁阻开关效应”。研究团队下一步将致力于提高“巨磁阻开关效应”出现的温度,以便将其用于开发新型电子元器件等。基于电阻开关效应的电阻式随机存取存储器被视为最有竞争力的下一代非易失性存储器之一。
传统的动态随机存取存储器是利用电容储存电荷多少来存储数据,其一大缺点是数据的易失性,电源意外切断时会丢失存储数据。而电阻式随机存取存储器是通过向器件施加脉冲电压产生电阻高低变化,以此表示二进制中的“0”和“1”,其存储数据不会因意外断电而丢失,是一种处于开发阶段的下一代内存技术。
论文第一作者、东京大学研究生院工学系研究科教授大矢忍指出,新成果将来有望在电子领域得到应用,特别是用于神经形态计算以及开发下一代存储器、超高灵敏度传感器等新型器件。
本站内容除特别声明的原创文章之外,转载内容只为传递更多信息,并不代表本网站赞同其观点。转载的所有的文章、图片、音/视频文件等资料的版权归版权所有权人所有。本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如涉及作品内容、版权和其它问题,请及时通过电子邮件或电话通知我们,以便迅速采取适当措施,避免给双方造成不必要的经济损失。联系电话:010-82306118;邮箱:aet@chinaaet.com。