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日本断供光刻胶，国产迎头赶上！
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首只国产ArF光刻胶通过验证
发表于：2020/12/19 上午8:30:20
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日本垄断的光刻胶，国内厂商找到了突破口
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上海电子化学品专区揭牌成立，重点发展光刻胶、电子特气等产品
发表于：2020/12/4 下午11:30:04
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泛林集团推出全新适用于200mm的光刻胶剥离技术
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国产光刻胶迎来首条生产线，对7nm芯片制造产生重大影响
发表于：2020/11/15 上午8:46:04
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同益股份：公司不具备光刻胶的自主生产能力
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募资不超过6.35亿元 南大光电加码布局光刻胶与三氟化氮
发表于：2020/11/9 下午9:56:54
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上海新阳拟定增募资，8.15亿元用于光刻胶项目
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光刻胶的局
发表于：2020/10/27 上午6:41:46
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晶瑞股份：拟购买光刻机可用于研发28nm的高端光刻胶
发表于：2020/10/15 下午1:16:14
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市占高达90%，日本持续发力EUV光刻胶
发表于：2020/10/15 上午10:27:15
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光刻胶、大硅片等半导体领域再次受到发改委关注
发表于：2020/9/24 上午9:49:39
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这家本土厂商要募资12亿，投入光刻胶等材料研发
发表于：2020/9/15 上午10:49:41
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日本出口管制一年后，半导体原料生产流入韩国
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光刻机产品填补国内空缺，上海新阳2019年净利增长3059.82%
发表于：2020/2/28 下午6:26:13
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南大光电子公司拟融资2.6亿，进一步推动光刻胶项目顺利实施
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韩媒：日本再度发出口许可、对象为三星所需的光刻胶
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安全事故连发，高端订单下滑，采购订单杀价，张忠谋退休后的台积电将走向何方
发表于：2019/1/31 下午10:35:09
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光刻工艺中最重要的光刻胶
发表于：2018/11/28 下午1:42:45
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中国半导体产业发展离不开国产关键材料支撑
发表于：2017/7/10 下午4:29:00
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FSI国际宣布将ViPR 全湿法去除技术扩展到NAND存储器制造
发表于：2009/3/26 上午9:47:39
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发表于：2009/3/25 下午3:56:24
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FSI国际在上海宣布推出ORION 单晶圆清洗系统
发表于：2008/11/6 下午5:14:35
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诺发公司（NOVELLUS）巩固其在光刻胶去除领域的市场领先地位
发表于：2007/8/13 上午9:12:13
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