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以TalusVortex和TalusVortexFX解决32/28纳米IC实现问题
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全球半导体产业发展演变研究
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应用材料公司为先进微芯片设计提供突破性的流体化学气相沉积技术
发表于:2010/8/25 上午4:54:54
中芯国际和Virage Logic拓展伙伴关系至40nm低漏电工艺
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中芯国际成功研发出65nm产品工艺,中国芯核心技术研发成功 依赖进口已成历史
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