头条 “网络安全”再次成为众多两会代表提案的关键词 今年的两会已落下帷幕，“没有网络安全就没有国家安全”，“网络安全”再次成为众多代表委员提案和议案中的关键词。随着网络的飞速发展，网络信息安全问题已对国家、社会及个人造成巨大威胁。 下面就一起看看对于解决所面临的网络安全问题，代表委员们都有哪些好的建议。 最新资讯 Vishay 新款具有领先导通电阻性能的80 V MOSFET可极大改善工业应用的热性能和可焊性 美国 宾夕法尼亚 MALVERN、中国 上海 — 2025年5月29日 — 日前，威世科技Vishay Intertechnology, Inc.（NYSE 股市代号：VSH）宣布，推出一款采用无引线键合（BWL）封装并具有业内先进导通电阻的新款80 V TrenchFET® Gen IV N沟道功率MOSFET---SiEH4800EW，旨在提高工业应用的效率。与相同尺寸的竞品器件相比，Vishay Siliconix SiEH4800EW的导通电阻低15 %，而RthJC低18 %。 发表于：2025/6/16 贸泽授权代理Molex产品提供丰富多样的选择 2025年5月29日 – 提供超丰富半导体和电子元器件™的业界知名新品引入 （NPI） 代理商贸泽电子 （Mouser Electronics） 是Molex的全球授权代理商，提供其丰富的产品解决方案。作为全球知名的连接器解决方案供应商，Molex凭借出色的工程技术、值得信赖的合作伙伴关系以及对质量和可靠性的不懈追求，为客户提供优质服务。贸泽提供超过180,000种Molex产品，其中包括35,000多种库存产品，可立即发货。Molex解决方案广泛应用于通信、数据中心、交通、医疗和工业等领域。 发表于：2025/6/16 非常见问题解答第233期：自动测试设备应用中PhotoMOS开关的替代方案 简介 随着AI应用对高性能内存，尤其是高带宽内存（HBM）的需求不断增长，内存芯片设计将变得更加复杂。ATE厂商是验证内存芯片的关键一环，目前正面临着越来越大的压力，需要不断提升自身能力以满足这一需求。传统上，在存储器晶圆探针电源应用中，PhotoMOS®开关因其良好的低电容乘电阻（CxR）特性而得到采用。低CxR有助于减少信号失真，改善开关关断隔离度，同时实现更快的开关速度和更低的插入损耗。 发表于：2025/6/16 当AI加速落地，这企业级SSD新品不容错过 COMPUTEX 2025期间，AI基础建设当仁不让的成为了重要话题。特别是随着AI应用的不断挖掘，AI算力设施就像是互联网设施、电力设施一般变得不可替代，如何将数据中心升级成AI工厂已经成为行业考虑的问题。 发表于：2025/6/16 机器人安全新突破：安全气泡探测器的强大功能 摘要 本文介绍实时安全气泡探测的架构，以及在开发模块化解决方案、优化高数据带宽应用以实现每秒30帧（FPS）运行、设计多线程应用和算法以准确探测靠近地面的物体等方面所面临的挑战。 发表于：2025/6/16 跨界融合、协同共生，英飞凌大中华区2025生态创新峰会举行 【2025年6月16日，中国上海讯】合作推动产业协同共进，创新引领技术突破发展。伴随AI加速落地、人形机器人崭露头角、电动汽车智能化进程加快、新能源转型蓬勃发展，产业边界逐渐模糊，跨界融合与协同共生的发展趋势愈发显著。契合这一发展趋势，日前，英飞凌在上海举办了2025大中华区生态创新峰会（OktoberTech™，以下同） 发表于：2025/6/16 连偶科技携前沿成果亮相西部电子信息博览会 备受瞩目的第十三届中国（西部）电子信息博览会将于2025年7月9日至11日在成都世纪城新国际会展中心盛大举行。作为西南地区科技与文化产业融合创新的先锋力量，连偶（重庆）科技有限公司（展位号：8C121） 将携其以“中国IP”为核心、融合AIGC与空间计算技术的前沿成果重磅参展，为观众开启一场沉浸式的“科技+文化”未来体验。 发表于：2025/6/16 AMD联手多家AI初创公司改进芯片及软件设计 6 月 14 日消息，据路透社报道，AMD 正在与多家 AI 初创公司密切合作，意在增强自身的软件能力并设计出更先进的芯片。随着越来越多的 AI 企业寻求英伟达芯片的替代方案，AMD 开始扩大布局，计划打造竞争力更强的硬件，并收购了服务器制造商 ZT Systems。 发表于：2025/6/16 ASML EUV光刻路线还能走多远？ 虽然近期台积电高管表示，台积电接下来的A16/A14制程都不会采用ASML售价高达4亿美元的High NA EUV光刻机（具有0.5数值孔径），但是英特尔则已经决定在其下一代的Intel 14A制程上选择采用High NA EUV光刻机进行量产。 与此同时，为了解决为了的1nm以下制程的制造问题，ASML正在积极的研发具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻机，这也意味着其将面临更大的技术挑战，要知道ASML花了约20年的时间才成功推动标准型EUV光刻机的规模商用。 而作为急需在EUV光刻机上进行突破的中国，则将目光瞄向了基于直线电子加速器的自由电子激光技术的EUV光源（EUV-FEL）技术。 发表于：2025/6/16 台积电与三星激战2nm 6月16日消息，据“韩国前锋报”报导，台积电和三星电子目标都是在今年下半年量产2nm制程芯片，两大半导体厂的抢单大战预计将更加激烈，但三星的良率持续低于台积电，成为吸引订单的挑战。 发表于：2025/6/16 <…538539540541542543544545546547…>
