3月31日消息，据台媒《联合报》报道，台积电前工员工、TEL工程师陈力铭与台积电在职工程师吴秉骏、戈一平合谋窃取台积电2nm关键技术一案于3月26日审理结束，最终判决结果将于4月27日宣判。

同时，针对陈力铭2024年涉嫌指使前台积电工程师陈韦杰，以手机偷拍台积电机密资料一案，裁定陈力铭、陈韦杰二人自4月1日及8日起延厂羁押两个月。

起诉指出，陈力铭曾任台积电Fab 12晶圆厂良率部门工程师，离职后进入台积电的半导体制造设备供应商TEL行销部门。

2023年至去年上半年，陈力铭为替TEL公司争取成为台积电先进制程更多站点设备供应商，多次要求当时在职的台积电工程师吴秉骏、戈一平提供台积电关键技术与营业秘密，拍摄重制后由TEL公司检讨改善刻蚀设备表现，以争取台积电2nm制程刻蚀站点供应量产机台资格。

台积电发觉异常后启动内部调查，怀疑有在职与离职员工非法取得关键技术与营业秘密，于2025年7月8日提出起诉。中国台湾于2025年7月25至28日指挥调查局发动搜索、约谈，审讯后将陈力铭、吴秉骏、戈一平申请羁押禁止会见获准。

2025年8月27日，中国台湾依照“营业秘密法”之意图域外使用而窃取营业秘密罪、窃取营业秘密罪、“安全法”之地区核心关键技术营业秘密之域外使用罪起诉3人，并求处陈力铭应执行有期有期徒刑14年、吴秉骏应执行9年有期徒刑、戈一平7年有期徒刑。

随后，检方后续又查出，陈力铭于2024年5月涉嫌指使前台积电工程师陈韦杰，以手机偷拍数十张涉及2nm制程原料与设备技术的机密资料。事件曝光后，TEL卢姓行销经理疑为掩盖证据，删除云端硬盘内的台积电机密资料。

检方依照“安全法”及“毁灭刑事证据”等罪名，追加起诉陈力铭、陈韦杰、TEL及TEL卢姓经理，并分别要求对陈力铭判刑7年、对陈韦杰判刑8年8月、对卢姓经理判刑1年，对TEL则要求处罚金新台币2500万元。

在案件侦查终结后，检方于2026年1月提起第二次公诉；陈韦杰移审后，也遭裁定续押。3月26日午辩论终结，将在今年4月27日上午11时宣判，同时命吴秉骏、戈一平于宣判期日到庭聆听判决。

此外，检方考虑到，被告陈韦杰否认违反“安全法”的罪行，且其在所涉犯罪情节、手段等方面的供述前后不一，对犯罪细节避重就轻。因此，针对陈韦杰的共同犯罪情节调查，仍有必要将其相关电子记录与共犯陈力铭及其他证人的供述内容进行比对核实。如果陈力铭、陈韦杰二人仍有机会相互串供或销毁证据，极有可能导致案情陷入混乱不清的局面。原有的羁押理由目前依然存在，故裁定陈力铭、陈韦杰分别自今年4月1日及4月8日起，延长羁押两个月，并禁止接见和通信。