8月8日，国产光刻机厂商上海芯上微装科技股份有限公司（以下简称“芯上微装”或“AMIES”）通过官方微信公众号宣布，近日，该公司自主研发的350nm步进投影光刻机（AST6200）凭借卓越性能与稳定表现，快速顺利通过国内化合物半导体领域头部客户的工艺验证，并斩获批量重复订单。

据介绍，AST6200光刻机可广泛应用于功率器件、射频前端、光电子芯片及Micro LED新型显示等制程场景。设备在关键工艺效果、工艺适应性与软件自主化方面均展现出核心优势：

1、关键工艺效果

AST6200光刻机搭载高性能投影物镜与先进照明模式，稳定实现350nm高分辨率精细图案化能力，全面满足Si、SiC、GaN、GaAs、InP、蓝宝石等多种衬底材料的光刻需求。其高精度对准系统确保多层图形之间精准套刻，显著提升器件良率。同时，通过采用高照度光源、高速基底传输系统及高动态运动台，显著提升单位时间产出，有效帮助客户降低单颗芯片的综合拥有成本（COO）。

2、强大工艺适应性

AST6200光刻机创新调焦调平系统能够稳定测量透明、半透明、不透明及大台阶等多种基底，确保复杂衬底条件下的曝光质量。平边对准和背面对准模块的加入，可满足特殊基底晶向解理和键合片对位等复杂制程需求。设备支持从2英寸到8英寸多种规格基片，兼容平边、双平边、Notch等主流基底类型，真正实现“一机多用”，为客户产线切换带来极大灵活性。

3、全栈自主的软件控制系统

AST6200光刻机搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理实现100%自主可控。该系统具备强大的工艺扩展能力与远程运维功能，能够持续为设备全生命周期赋能，助力客户实现智能化、高效率的产线运营。

芯上微装表示，从首台AST6200光刻机交付到实现批量复购，不仅表明产品开发与产业实际需求相契合，也标志着设备的核心性能与稳定性经受住了市场的检验。

资料显示，芯上微装成立于2025年02月08日，是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的创新型科技企业。公司致力于为IC前道芯片制造、晶圆级/板级先进封装、化合物半导体和新型显示等应用领域提供高精度、高性能、高可靠性的设备及解决方案。

公司技术团队约600人，平均年龄33岁，65%为硕士博士学历；拥有上海市劳动模范、上海市优秀技术带头人、上海市青年科技启明星计划、上海市产业菁英领军人才，以及浦东明珠计划人才/工程师等高层次人才十数人。

2025年8月8日，芯上微装还举办了第500台步进光刻机交付仪式。

2025年11月25日，芯上微装宣布，公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200 ）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。

那么为什么一家刚刚在2025年2月就成立的国产光刻机厂商在几个月的时间就完成了第500台步进光刻机的交付以及首台350nm步进光刻机发货呢？

业内信息显示，芯上微装是国产光刻厂商上海微电子装备（集团）股份有限公司分拆出来的独立公司，拟募资独立IPO。目前其的主力产品为晶圆级先进封装光刻机、激光退火设备和前道晶圆缺陷检测设备。

值得注意的是，2025年底，国产光刻机厂商上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称“上海微电子”）将其子公司上海威耀实业有限公司（简称“威耀实业”）100%股权转让给了芯上微装，后者认缴出资额2.285亿元。