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马斯克或采用FEL技术挑战EUV光刻机

2026-08-10
来源:快科技

8月10日消息,据媒体报道,SpaceX近日宣布,将与特斯拉合作,初期投入168亿美元,在美国得克萨斯州共建一座名为“Terafab”的芯片制造设施。

随后有博主爆料称,根据Terafab发布的信息推测,马斯克可能计划采用自由电子激光器(FEL) 技术路线,直接挑战ASML现有的LPP EUV光源方案,颠覆传统EUV光刻技术的垄断格局。

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马斯克本人随后在社交平台发文“FEL FTW”(FEL必胜),被外界视为对这一推测的侧面印证。结合Terafab细长的厂房设计及马斯克的表态,FEL技术路线成为当前最热门的猜想方向。

尽管目前仍属猜测,FEL技术本身的特性已引发业内热烈讨论。该技术具备高功率、高相干性、波长可调谐以及更高能效等优势,理论上可将光刻光源从当前主流的13.5nm推向6nm乃至更短波长,大幅延伸摩尔定律的生命周期。

然而,其产业化前景同样面临巨大挑战——庞大的加速器系统、高昂的建设成本以及量产稳定性,仍是横亘在商用化道路上的现实难题。

据SpaceX官网介绍,Terafab将集先进逻辑芯片和存储器件制造、封装与测试于一体,旨在实现芯片的快速迭代与部署,为SpaceX未来的航天计算需求提供自主可控的供应链支撑。

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